型号：SC-N058

购入时间：2010年6月

制造厂商：苏州华林科纳半导体设备技术有限公司

安置地点：平板中心一楼黄光区

所在单位：新型显示技术及应用集成教育部重点实验室

联系人：陈龙龙

联系电话：021-56334402

仪器简介：

主要技术指标：

1、酸刻蚀槽：

清洗批量：1篮/批次

适用于清洗药液：HF、HNO3、H3PO7、HCL、HAC等及其混合酸。

加温温度：RT-60℃，温度控制精度±1℃。

2、碱性剥离槽：

清洗批量：1篮/批次。

适用于药液：显影液、脱膜液、置换液等溶液。

加温温度：RT-80℃，温度控制精度±2℃。

3、QDR槽：

清洗批量：1篮/批次。

用于清洗剥离完成之后，残余在基片之上的剥离液与污染颗粒。

适用于药液：DIW。

应用范围：

主要实现200mm´200mm´0.7mm方形玻璃基板上的金属膜层的刻蚀、光刻胶显影、剥离、清洗、干燥等功能。