等离子体气相沉积系统

创建时间:  2017-09-28     浏览次数:


设备名称: 等离子体气相沉积系统

设备型号: PECVD-2

制造商: 北京创维纳公司

启用时间: 2006年9月

管理人:张 浩

联系电话:021-56334402

PECVD技术参数;

1. 双反应室,规格 Φ400×160mm

2. 极限真空度: 5.0×10-5Pa

3. 样品台尺寸:Φ290mm

4. 沉积材料:氧化硅、氮化硅、非晶硅等

5. 沉积速率:200Å/min

6. 加热温度:≦500℃

7. 沉积均匀性:≦±5%





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