TFT用磁控溅射镀膜系统

创建时间:  2017-09-28     浏览次数:


型号:SME-200E

购入时间:2010.9

制造厂商:ULVAC

安置地点:平板显示楼

所在单位:新型显示技术及应用集成教育部重点实验室

联系人:石继锋

联系电话:021-53664402

是否共享(是/否):是

仪器简介:

该设备具有以下功能:

1.可以完成Al/Mo等金属薄膜材料的沉积;

2.可以完成IGZO/GZO等半导体功能薄膜沉积;

3.可以完成ITO薄膜材料的沉积

主要技术指标:

1.1.沉积基板为200*200大小玻璃基板;

1.2. RF溅射电源最大功率为500W,DC溅射电源最大功率为2000W;

1.3.真空配置为干泵+冷泵模式;

1.4.最大溅射温度为400摄氏度;

1.5.金属和IGZO靶材尺寸为Φ101.6*t6(mm),ITO尺寸为400*420*t5(mm);

应用范围:平板显示

收费标准:电话联系





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