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讲座:氮化镓单晶材料生长及产业化应用进展

创建时间:  2018-01-08     浏览次数:


主讲人:王建峰博士

时间:2018年1月9日下午3:50-4:30

地点:平板楼大会议室

报告人简介:

王建峰博士,2001年保送到武汉大学物理系攻读博士学位,2002年到中科院半导体研究所联合培养,从事“Si基GaN材料生长及应力研究”。 2006年毕业,获理学博士学位。在博士学位攻读期间,独立研制了原位应力测试系统,系统的研究了GaN材料在生长过程中的应力演变过程,在Appl.Phys.Lett.等杂志上发表论文数篇。2006年10月加入苏州纳米技术与纳米仿生研究所,主要从事氮化镓晶片的研究及产业化开发工作。





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