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学术报告:光刻和纳米压印技术

创建时间:  2020-07-17  任春明    浏览次数:


题目:光刻和纳米压印技术

时间:2020年07月20日8:00-12:00

地点:上海大学平板楼

主持人:张建华


专家介绍:

王庆康:男,1962年1月生,1985年毕业于北京大学,教授。85年至今在上海交通大学先后从事化合物半导体器件、高速IC设计、光电集成等领域的研究工作。1993年作为第二发明人“高性能铟镓砷光电探测器”获93年国家发明四等奖;1996年获上海市青年科技启明星项目“高速IC电磁场模拟设计”资助;1996年负责承担自然科学基金项目“GaAs IC数字电磁场技术基础研究”。先后发表研究论文近三十篇。目前正承担上海市自然科学基金及上海市纳米专项项目,申报优秀青年教师基金题目“纳米马达研究”。目前主要研究领域:微纳制造技术、微纳光学/光电子器件及其在信息、能源领域的应用。





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